近日，日本Gigaphoton公司宣布，已于9月25日在日本国内一家高温超导带材制造商处安装了L300KZ KrF准分子激光器，用于脉冲激光沉积（PLD）工艺评估。该激光器是在日本内阁府"登月型研发计划"Goal 10框架下开发的，旨在推进高温超导带材的量产技术。
Gigaphoton是"登月计划Goal 10——实现多种创新型聚变堆概念的基础超导技术"研发项目的参与机构之一（项目编号JPMJMS24A2）。该项目目标是建立高性能稀土钡铜氧（REBCO）带材的高质量、低成本量产技术——REBCO是聚变堆用超导磁体的关键材料。在项目中，Gigaphoton负责开发用于PLD工艺的准分子激光器。
此次安装用于评估的L300KZ是一款高脉冲能量激光器，专为高温超导材料的PLD薄膜沉积而开发，技术源自Gigaphoton在半导体光刻准分子激光器领域积累的经验。
在PLD工艺所用光源中，准分子激光器因脉冲能量高而被广泛用于制备高质量薄膜。Gigaphoton将其在半导体光刻准分子激光器领域积累的稳定运行、高可用性等技术应用于PLD工艺，以期提升未来PLD工艺的生产效率与设备可用率。
通过此次安装，项目将进入实际PLD薄膜沉积工艺环境下的评估阶段。Gigaphoton将与项目相关机构合作，验证激光运行条件与沉积工艺之间的关系，为高温超导带材的质量提升和量产技术建立提供支撑。
Gigaphoton社长稻见辰夫表示："在实际薄膜沉积工艺环境中安装PLD用准分子激光器并进入评估阶段，对Gigaphoton而言是重要一步。除高温超导带材外，我们还期待PLD技术在功能薄膜、先进电子材料、光学材料等更广泛的先进材料领域实现应用。"
据悉，Gigaphoton成立于2000年，是半导体光刻用KrF和ArF准分子激光光源的主要供应商，目前正将业务从半导体光刻拓展至EUV光源、先进封装及先进材料加工用准分子激光器等新领域。
内容来源：Gigaphoton官网
