长光华芯最新“高功率激光匀化”专利详解

导语:在激光显示、先进照明及高端材料加工(如新能源电池涂布、激光焊接)领域,高功率(10kW以上)与大发散角的匀化光斑一直是行业刚需。然而,传统的非球面整形或光斑拼接技术,常常受限于镜片材料的功率阈值,或在拼接处出现“冷热不均”的致命缺陷。
近日,国内半导体激光龙头企业——苏州长光华芯公布了一项名为《一种实现激光匀化光斑的光学装置及激光系统》的发明专利(申请号:202610255969.6)。该技术巧妙破解了上述瓶颈,引发了业内的广泛关注。

1核心技术揭秘:光纤阵列与准直透镜的完美交响

长光华芯最新“高功率激光匀化”专利详解
(AI专利生图 非产品实物图)

根据专利文献,长光华芯摒弃了传统的单光源整形思路,创新性地提出了“光纤阵列 + 准直透镜阵列”的组合架构。其核心技术亮点保留如下:

  • M×N二维阵列排布:

    采用多根光纤在第一和第二方向组成投影阵列,并通过精确的数学模型(专利中给出了详尽的后表面顶点位置公式)设定各个准直透镜的三维空间坐标。
  • 突破性的光斑叠加原理:

    让各个光纤出射的激光经过非球面准直透镜后,在大于10倍瑞利区间(Rayleigh Range)的工作面上实现光斑的精准重叠,形成光纤端面的“近场像”。
  • 偶次非球面精密补偿:

    透镜表面轮廓采用偶次非球面设计,精准补偿不同入射角光线的像差(光程差),使得能量在光斑截面内的分布保持与光纤芯径高度一致。
  • 调焦透镜实现动态可调:

    在准直透镜出光侧额外增加调焦透镜,通过微调间距(如0.05mm至1.15mm),可将1500mm工作距离处的光斑尺寸在1080mm至770mm之间连续无极调节。
    长光华芯最新“高功率激光匀化”专利详解

2性能优势:真正的“高能且平滑”

这项光学装置专利带来了立竿见影的性能跨越:

1. 无上限的功率叠加(抗高反/抗烧毁):
传统单镜片承受极高功率容易热透镜效应或损坏。本专利通过阵列分担功率,例如:单根光纤400W,利用9×9光纤阵列同时出光,即可轻松实现 32kW 以上的超高功率出光,且单组镜片承受功率极小。

2. 超大发散角与超大尺寸:
原本发散角约为12.71°的光束,经专利中的0.5mm焦距透镜准直后,发散角剧增至 34.38°(增大约2.7倍)。在1500mm工作距离处,可形成对角线长达1800mm的巨型光斑。

3. 消除“斑马纹”,均匀度突破90%:
彻底摒弃了物理拼接方法,依靠阵列远场叠加,整个光斑区域内的光强均匀度稳定保持在 90%以上,边缘锐利,无畸变。

3剑指三大千亿级应用市场

此项专利并非仅仅停留在理论层面,其针对的落地场景极为明确,直击高端制造业痛点:

  • 新能源领域的激光涂布与干燥:

    在锂电池极片制造中,利用宽幅、高均匀性、大功率的匀化激光进行极片快速烘干和涂布加热,不仅能大幅提升线速度,还能保证极片受热绝对均匀,提升电池良率。
  • 高端激光焊接与熔覆:

    对于厚板焊接或大面积金属零部件的表面激光熔覆(3D打印辅助),万瓦级大面积均匀光斑能提供稳定的熔池,避免局部过热导致的飞溅或气孔。
  • 下一代激光显示与照明:

    大角度、高均匀性的光斑是巨幕激光影院、高亮度特种照明(如航海、安防)的最理想光源。

4市场前瞻:长光华芯的“护城河”与国产化突围

近年来,随着欧美对华先进半导体及高端激光器相关技术出口管制趋严,高端工业激光核心器件的“国产替代”已进入深水区。

作为科创板上市的“中国半导体激光第一股”,长光华芯近年来在VCSEL芯片、高功率单管/巴条(Bar)等方面屡获突破。据相关产业新闻报道,随着新能源汽车(NEV)和光伏产业(PV)的扩产潮,国内外头部设备厂商对高功率、定制化激光加工整机(如大型激光退火设备、激光清洗机)的订单需求呈现爆发式增长。

订单逻辑分析:长光华芯此次布局的光束整形(匀化)专利,补齐了从“高功率芯片光源”到“高质量光束输出”的最后一环。这意味着长光华芯不仅能卖芯片,更具备了提供高价值光学系统解决方案的能力。随着该光学装置向产业链下游的设备集成商(如大族激光、华工科技等)渗透,有望转化为直接的营收增长点,进一步抢占此前由国外巨头(如相干、通快)垄断的高端加工市场份额。